中国光刻机技术取得重大突破

时间:2021-09-25
EUV光刻机一直是中国芯片制造无法进一步升级的制约因素。去年9月,时任中国科学院院长的白春丽公开表示,他将专注于解决光刻机问题。在不到半年的时间里,中国科学家在这种“卡死”现象中取得了关键性突破。技术。根据最新报告,清华大学工程物理系唐传祥教授的研究组是由德国亥姆霍兹柏林材料与能源研究中心(HZB)和德国联邦物理研究所组成的合作团队。技术(PTB)在国际权威期刊《自然》上发表了一篇研究论文。该研究结果是第一个验证新型粒子加速器光源“稳态微聚束”原理的实验。 (SSMB)和2015年在清华大学工业科学与技术系攻读博士学位的邓秀洁是第一作者。唐传祥教授指出,大功率EUV光源是EUV光刻机的核心基础。 SSMB的EUV光源有望解决“卡脖子”的核心问题。在自行开发的光刻机中。您知道,在芯片制造链的所有环节中,光刻机负责最复杂和关键的工艺步骤。 EUV光刻机是高端芯片制造必不可少的精密设备。目前,荷兰的ASML是世界上唯一的EUV光刻机供应商,每台EUV光刻机的售价都超过1亿美元。据《日经亚洲评论》报道,中国芯片制造行业的领导者中芯国际于2018年从ASML购买了EUV光刻机,总价值为1.2亿美元(约合7.7亿元人民币)。但是,由于干扰,直到极限仍无法到达。然而,清华SSMB研究小组已经为“稳态微束极紫外光源研究装置”提交了项目建议书。向国家发展和改革委员会提出申请,并在“第十四个五年计划”期间宣布了一项主要的国家科学技术基础设施。可以相信,随着科学家的深入研究和发展,我国有望加快自主研发和生产EUV光刻机的步伐,为国内芯片产业注入更强大的生命力。